半导体湿法制程酸蚀设备

昆航智能：半导体湿法制程酸蚀设备

精准刻蚀，洁净无忧

昆航智能专为半导体前道制程打造高性能湿法酸蚀设备，聚焦 高均匀性、极致洁净与强耐腐蚀 三大核心优势。

• 工艺卓越 ：采用创新流场设计，确保晶圆表面酸蚀速率高度一致，显著提升产品良率。

• 材质可靠 ：全系PP/PTFE/PFA防腐结构，无惧强酸强碱，杜绝交叉污染。

• 智能高效 ：集成自动化上下料与药液监控系统，降低人工误差，实现高效运维。

广泛应用于大硅片、先进封装及功率器件制造，以自主可控技术助力芯片制造新高度